三星电子正在其4nm代工量产环境中测试S&S Tech的(101490)国产EUV空白掩模。这标志着这些掩模首次被引入到实际生产线上

目标是降低对日本Hoya的依赖，增强供应链韧性，并获得更大的定价主动权
据报道，三星一直在向S&S Tech提供反馈以提升质量，而S&S Tech已经为此投入了大量资金用于检测设备和新的永仁工厂。如果本地化进展顺利，三星每年可能节省数百亿韩元并缩短交货周期，不过大规模生产订单仍可能需要6个月到超过1年的时间
“我了解到，S&S Tech的掩模正在用于EUV工艺。即便在4nm节点内，这种工艺的要求也相对较低。一位行业内部人士表示。它们在实际量产线上测试样品，体现出对本地化的强烈承诺。”这位内部人士补充说，三星的目标是降低对日本Hoya的依赖，并在一段时间内逐步获得更强的定价能力
空白掩模是用于半导体制造中，将电路图案转移到晶圆上的光掩模的基础材料。它通常是在高纯度玻璃基板上沉积一层薄的金属或化合物薄膜制成。随后，芯片制造商会在空白掩模上刻蚀电路图案，以生成最终的光掩模
EUV空白掩模与传统的深紫外线（DUV）产品差异显著。DUV空白掩模是透射式的，这意味着紫外线会穿过基板，在晶圆上形成图案。相比之下，EUV空白掩模是反射式的，这意味着极紫外线会被反射，而不是被透射。它们是在玻璃基板上交替堆叠几十层、约40对的钼和硅制成。由于EUV的波长很短，即便是极其微小的缺陷都可能至关重要，这使得制造和检测都变得更加严苛
去年年初，S&S Tech为其EUV空白掩模生产线投入了超过400亿韩元，从日本Lasertec采购检测设备。据报道，这些设备已安装在公司去年10月完成的新的永仁工厂中
三星电子目前大部分EUV空白掩模仍从日本Hoya进口。然而，过去由于日本地震等中断，它曾多次遭遇采购问题。尽管Hoya已在新加坡扩大产能以应对这些问题，但半导体行业内部的担忧仍然存在
EUV空白掩模每片成本可达数千万韩元，而高端版本甚至可能超过1亿韩元。据报道，如果S&S Tech能够成功实现供应本地化，三星预计将实现每年数百亿韩元的节省，并缩短交货周期
“我了解到，S&S Tech在收到三星电子的反馈后，正着手改进以降低颗粒生成。一位行业官员表示。在下达大规模生产订单之前，可能需要6个月到超过1年的时间。”