Empresa japonesa desenvolve tecnologia para fabricar semicondutores de 1,4 nanômetros com 1/10 da energia elétrica

SelfStaking · 2026-03-17T10:13:13+00:00

A Dai Nippon Printing (DNP) desenvolveu uma tecnologia que consegue produzir semicondutores avançados com um décimo do consumo de energia. Irá orientar a Canon na produção de um novo método de equipamento de fabrico, com produção em massa em 2027 de componentes centrais que podem suportar produtos de próxima geração de 1,4 nanómetros (1 nanómetro é um milionésimo de milímetro). Existe uma grande possibilidade de redução significativa dos custos de fabrico de semicondutores para inteligência artificial (IA).Atualmente, para produzir em massa os semicondutores mais avançados, é necessário utilizar máquinas de litografia ultravioleta extrema (EUV), cuja produção é monopolizada pela holandesa ASML Holdings. O "processo de litografia" de desenho de circuitos nas pastilhas (substratos) representa 3 a 5 décimas dos custos totais de fabrico de semicondutores. Quanto mais fino o circuito, maior é o número de vezes que a litografia é necessária, e o consumo de energia aumenta em conformidade. Uma máquina de litografia EUV custa aproximadamente 3 mil milhões de ienes, impondo um pesado encargo de investimento aos fabricantes de semicondutores.Enquanto isso, o equipamento de fabrico de "nanoimprint (Nanoimprint)" da Canon

SelfStaking

2026-03-17 10:13:13

A Nippon Printing (DNP) desenvolveu uma tecnologia capaz de produzir semicondutores avançados com apenas um décimo do consumo de energia. A nova forma de fabricar dispositivos voltados para a Canon, que suportam a produção de componentes centrais para a próxima geração de produtos de 1,4 nanômetros (um nanômetro é um bilionésimo de metro), estará em produção em 2027. A fabricação de semicondutores com inteligência artificial (IA) pode reduzir significativamente os custos.

Atualmente, para produzir em massa os semicondutores mais avançados, é necessário usar a máquina de litografia de luz ultravioleta extrema (EUV) produzida exclusivamente pela ASML Holdings, na Holanda. A etapa de “litografia” que desenha os circuitos no wafer (substrato) representa de 30% a 50% do custo total de fabricação do semicondutor. Quanto mais finos os circuitos, mais litografias são necessárias, aumentando o consumo de energia. Uma máquina EUV custa cerca de 30 bilhões de ienes, representando um pesado investimento para os fabricantes de semicondutores.

A máquina de fabricação “Nanoimprint” da Canon usa um método semelhante a um carimbo para criar circuitos no wafer. A DNP desenvolveu um “modelo (template)” de circuito que funciona como um carimbo de alta precisão, compatível com processos de até 1,4 nanômetros. Anteriormente, essa tecnologia não suportava a fabricação de semicondutores avançados de 2 nanômetros ou mais.

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